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Sensofar 荣获 Photonics Spectra 杂志评选的 2004 光电学界杰出成就奖

产品, 技术, 新闻, 测量学

Sensofar-Tech, SL 荣获2004 光电学界杰出成就奖,该奖项仅授予“年度最佳技术创新产品”。颁奖典礼将在2005 年美国西部光电展期间于2005 年1 月24 日在美国加利福尼亚州圣何塞的费尔蒙酒店举行。

Sensofar 凭借其创新的光学轮廓仪PLµ 2300 获得认可。该光学轮廓仪的专利技术包括拥有双重技术的传感器头,结合了用于非接触式测量技术表面的微几何和纳米几何结构的共聚焦和干涉技术。

使用光学轮廓仪PLµ 2300 上的微显示技术和高功率LED 照明是在非接触式光学轮廓测量方面的重大突破。PLµ 2300 将共聚焦显微镜、相位差干涉和白光干涉完美结合,为各种应用提供完整的解决方案,例如:高宽高比和高斜率样本(MEMS)、低反射率和粗糙的表面(纸张)、不同材料样本的纳米粗糙度和纳米特性(半导体行业)或光滑和低反射率光学表面的高局部斜率(微光学/显微镜头)等等。

photoProduct_Plu2300

该产品独特结合了多项创新技术,优于所有现有的系统。此外,PLµ 2300 还拥有紧凑且坚固的设计,使其成为一套完整的工具,十分适合快速、无损地评估各种表面的微米和纳米几何结构:从研发和质量检验实验室的标准建设到针对在线流程控制和OEM 应用的控制器或由机器人操纵的系统。

“我们很荣幸能获此殊荣。我们相信获此奖项是对我们持续努力的创新工作的认可。”Sensofar 总裁Ferran Laguarta 先生如此说道,“2004 光电学界杰出成就奖同样是对我们公司市场地位的肯定,将帮助我们获得30% 的多功能光学轮廓仪市场占有率。”