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Sensofar Metrologyでの新しい論文発表

ニュース, 計測学

Sensofar Metrologyでの新しい論文発表

Sensofar R&Dは、そのノウハウ、技術、システム機能を常に成長させています。このような発展は、科学的計測のコミュニティにおいて、また科学的計測のコミュニティのために、Sensofarが継続的に活動していることに表れています。

この関与を明確に示す2つの論文が6月の今月中に発表されます。

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SPIE光学計測
6月23日(水) 9: 20
am、3 D顕微鏡セッション、論文11782 -24

テクニカルイベント:工業検査用光学測定システムXII
構造光による光学的断面像の回復のための様々な方法の計量的特性評価
発表者Pol Martínez, MSc (R&A; D)

要約イメージング共焦点顕微鏡(ICM)と焦点変動法(FV)は、3 D表面計測に最も使用される2つの技術です。どちらの方法も、顕微鏡の対物レンズの焦点深度に依存し、その開口数と光源の波長によって光学断面を計算します。
この論文では、構造化照明顕微鏡法のいくつかの方法が、面光学式形状測定装置の計測特性にどのように影響するかを研究しました。異なる構造化パターンの投影、切片化アルゴリズム、および高周波成分と低周波成分の光学切片化画像への使用の効果を研究します。システムノイズ、計器伝達関数、粗さパラメータ、ステップ高さ値などの計測特性の観点から性能を特徴づけました。

プレゼンテーションの完全な抄録と正確な場所と最終プログラムは、SPIE光学計測技術会議[wp – svg – icon icon =” redo -2 “wrap =” i “].

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EUSPENのバーチャル国際会議
6月8日(火)17:00~18:00ICE 21206 – P5.07 -ポスタールーム4 :計測(高繰り返し率3 D光学センサ)

‘3 D光学センサのリニアステージに関する検討’
発表者Pol Martínez, MSc (R&A; D)

要約  サーフェイスの特性評価は、サーフェイスパラメータが検査されたアイテムの特性に関する情報を提供するため、多くの品質管理プロセスにおいて重要な指標を提供します。マイクロおよびナノレベルでの表面特性評価のために最も使用される技術は、コヒーレンススキャニング干渉法(CSI)、イメージング共焦点顕微鏡法(ICM)および焦点変動法(FV)です。これらの技術は光学的原理に基づいており、検査中に試料に損傷を与えず、ナノメートル分解能を得ることができます。それにもかかわらず、センサ全体を機械的にスキャンする必要があるため、取得時間が長くなります。
インダストリー4.0に向けて進化するためには、製造プロセスのさまざまなステップの自動化に到達するためにクローズドループ製造が不可欠です。このコンテキストでは、特に通常1秒未満でサンプルを検査する必要があるインラインプロセスでは、品質検査コストを削減するために、業界はより高速でより小さなセンサーを要求しています。光学式形状測定装置を使用してこの要件を達成するには、センサのサイズと質量を小さくしながらカメラのフレームレートを増加させ、機械的スキャンのダイナミクスを向上させる必要があります。
本論文では,リニアブラシレスモータを用いたリニアステージの性能特性を,ステッピングモータで駆動するリニアステージと比較して,移動範囲,精度,再現性の観点から解析しました。ブラシレスモーターを備えたリニアステージは、センサー全体の代わりに対物レンズのみを移動させ、加速度のダイナミクスを向上させます。さらに、モーターに異なる動きプロファイルを適用することを提案します。これらの新しいプロファイルは、前述のすべての計測技術が連続スキャン時に非常に安定した一定速度を必要とするため、モーターの加速と減速によって引き起こされるシステムのダウンタイムを最小限に抑えることを目的としています。ダウンタイムの短縮は、より速い取得速度につながり、リアルタイムの3 Dトポグラフィーを取得することができます。

フルアブストラクトとテクニカルポスターバーチャル国際会議プログラム[wp – svg – icon icon =” redo -2 “wrap =” i “].

Sensofar MedicalはPQIと提携していますnanoRoadshow:サーフェイスの次のレベルのQC