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Sensofar为科学测量界做出了新的贡献

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Sensofar Metrology的新论文

今年,Sensofar研发部门还在撰写另外两篇论文,无疑将引发各界对光学测量领域产生巨大的兴趣。
第一篇论文完全是由Sensofar内部人员完成的。该论文将由我们的同事Lena Zhukova4月6日法国斯特拉斯堡欧洲光子学国际会议上演示。

本演示的详细内容如下:

logo-spie

国际光电工程学会(SPIE)展览会
4月6日,星期三,下午4:10,Cassin,Niveau/1层

技术活动:国际光电工程学会(SPIE)欧洲展览会
基于结构化照明进行表面测量的超分辨率3D光学轮廓
主讲人:(研发)理学硕士Lena Zhukova
论文摘要:用于3D表面测量的光学技术(如共聚焦成像显微镜)的分辨率完全被光衍射阻碍,光衍射限制了轴向分辨率和横向分辨率。因为这种限制存在,无法采集纳米级结构样品的表面形貌。为了克服这一限制,目前开发了超分辨率技术,诸如结构化照明显微镜(SIM),使得横向分辨率能够增加到先前的两倍,从而能够测量对常规光学显微镜来说太小而无法测量的结构。SIM参照结构化照明的投影,以该投影的等间距相移周期条纹作为依据恢复高频信息,并对采集到的图像进行后处理,得到超分辨率图像。将数字微镜装置(DMD)与LED结合,形成结构化照明,从而确保条纹频率和相移的精确控制和稳定性。另外,因为通过其轴向扫描投射的图案只在样品的焦点区域内具有较好的对比度,还提供了扫描表面的光学切片。为了重建3D表面,光学轮廓仪利用此光学切片能力,通过在每个点处的轴向扫描定位最大信号。基于激光干扰的SIM已能够实现轴向尺寸测量的超分辨率,但是基于DMD方法却无法实现。论文中,我们探讨了如何利用基于DMD的SIM,来提高轮廓仪在结构表面测量中的横向超分辨率。我们对基于DMD的光学轮廓仪作出改进,以实现图像堆栈的横向超分辨率,并探索如何提高3D表面重建的质量。为此,我们将超分辨率图像与不同的光学切片技术相结合,并通过表征测定仪传递函数,来评估形貌的横向分辨率。

如需完整的演示文稿信息,请访问国际光电工程学会(SPIE)欧洲展览会演示文稿

该论文全文即将发布在Sensofar论文

在Sensofar,我们重申对持续改进的承诺,这是我们质量政策的核心。您始终都能感受到我们在自身领域对技术和研究的持续投入。我们的目标是成为全球范围的行业基准,我们将不停歇地追求并达成这一目标。

第二篇论文是由Sensofar与合作伙伴英国诺丁汉大学共同完成,也体现了光学测量在测量领域的重要性增材制造.

敬请期待所有细节。

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